工控產品

Hitachi 日立 E-1045 離子濺（jiàn）射儀（Ion Sputter），為電子顯微鏡（jìng）樣品前處理的經典機型，廣（guǎng）泛（fàn）應（yīng）用於 SEM 鍍金、鍍鈀、金屬薄膜製（zhì）備等科研和工業領域。

本（běn）設備為（wéi） 2009 年日本原裝進口，外（wài）觀成色良好，內部（bù）潔淨，功能運行正常，已通過實（shí）際測試。圖（tú）片均為實物拍攝，所見即所得（dé）。

主要（yào）參數

• 型號（Model）：E-1045

• 生產年份：2009

• 電源：100V 50/60Hz 單相

• 功率：1.2 kW

• 產地（dì）：日本製造（Made in Japan）

• 用途：離子濺射、SEM 鍍膜、納米材料製備、金屬薄膜沉積

設備特點

• 可穩定產（chǎn）生離子（zǐ）束用於貴（guì）金（jīn）屬鍍膜（Au、Pt、Pd）

• 鍍層均勻，重現性佳（jiā）

• 適合所有品牌 SEM 樣品前處理

• 操作界麵簡單易用

• 內置氣體調節功能（GAS ADJUST）

 隨機（jī）附帶（根據照片核實）

• ULVAC GLD-136B 機械泵（原（yuán）裝日本）

• 高壓電（diàn）纜及氣路管線

• 原裝濺射頭組件

• 設（shè）備電（diàn）源線與控製連接線

（如需我幫你整理“包含物（wù）清單”用於電商描述，我可以繼續（xù）完善。）

狀態說明

• 設備外觀保存完整（zhěng），無明顯磕碰

• 內部腔體幹淨，狀態良好

• 各項功能正常，可通電試機

• 非常適合實驗室、科研所（suǒ）、半導體工廠使用

適合應用（yòng）

• SEM 樣（yàng）品前處理

• 金屬薄膜濺射（如（rú）金、鉑、鈀）

• 納（nà）米材料研究

• 表麵工程

• 微（wēi）電子實驗（yàn）室（shì）