工控（kòng）文（wén）章

日立離子濺射儀 MC1000/MC100係列用戶手冊使用指南

發布時間:2025-11-20 16:31:52 | 瀏覽量：915

日立離（lí）子濺射（shè）儀 MC1000/MC100係列用戶手冊使用指南

1. 前言與儀器概述

日立MC1000離子濺射鍍膜儀是日立高新技術公司專為掃描（miáo）電子（zǐ）顯微鏡（SEM）樣品製備設計的台式磁控濺射鍍膜設備，用於在非導（dǎo）電樣品表麵沉積極薄（1-30 nm）的導電（diàn）金屬膜，消除SEM觀察時的充電效應，提高二次電子成像質量（liàng）。

核（hé）心優勢（shì）：

采用磁控（kòng）濺射技術，實現低溫、低損傷、高顆粒細膩度（dù）的（de）鍍膜。
對熱敏、生物、聚合物等敏感樣品特（tè）別友好。
7英寸彩色LCD觸摸屏操作，支持多語言。
Recipe功能可存儲多組常用參數，一鍵調用。
支持可選膜厚（hòu）監控單元，精確控（kòng）製膜厚。
操（cāo）作現代化、自動化程（chéng）度高（gāo）。

適用領（lǐng）域：材料科學、生物學、地質學、半導體、納米技術、失效分析等。

2. 安全注意事項

氬氣安全：操作環境通風良好，或安裝氧氣（qì）濃度檢測儀。
高壓電風險：嚴禁在運行（háng）時打開蓋子或觸摸內部部件。
真空安全：打開樣（yàng）品室前必須破真空。
靶材毒性：更換靶材時戴（dài）手套、口罩。
輻射：濺射（shè）過程產生少量X射線，但設備已屏蔽。
禁（jìn）止事項：

嚴禁使（shǐ）用氧氣或其他活性氣體。
不要在樣品台（tái）上放置易燃、易爆、強磁性物質。
設（shè）備運行時勿遠離。

緊（jǐn）急情況：立（lì）即切斷電源、關閉氬氣總閥、疏散人員。

3. 技（jì）術（shù）規格參數

項（xiàng）目	參數詳情
型號（hào）	MC1000
濺射方式	DC磁控濺射
靶材尺寸	φ50 mm × 0.5 mm
樣品（pǐn）台	標準φ50-60 mm，可旋轉；最大樣品（pǐn）高度20 mm
靶-樣距離	固（gù）定30 mm
極（jí）限真空	≤5×10⁻⁴ Pa
工作真空	5-10 Pa
濺射電流	0-40 mA 可調
濺射電壓	0-1.5 kV
鍍膜速率	Au: ~35 nm/min；Au/Pd: ~25 nm/min；Pt: ~15 nm/min；Pt/Pd: ~20 nm/min
膜厚控製	時間控製或選配膜厚計
真空泵	渦輪分子泵 + 旋（xuán）轉機械泵（bèng）
操作氣體	高純氬氣（99.99%以上）
氣體流（liú）量控製	自動質量流量計（MFC）
顯示/操作	7英（yīng）寸彩色LCD觸摸屏（píng）
Recipe存儲	最多5-10組
電源	AC 100-240 V，50/60 Hz，單相，約1.5 kVA
外（wài）形尺（chǐ）寸	約450 (W) × 391 (D) × 390 (H) mm
重量	主機約25 kg，泵組約28 kg
工作（zuò）環境	溫度15-30℃，濕度≤85%（無結露）

4. 儀器結（jié）構與麵板說明（míng）

正麵視圖：

7英寸觸摸屏
樣品室（shì）玻璃缸
靶材高度調整旋鈕（部分老款有（yǒu））
主電源開關（guān）

後麵板：

氬氣進口
真空泵電（diàn）源與信號線
主電源插座
排（pái）氣口

內部結構：

磁控靶
樣品台
石英晶振膜厚探頭（tóu）（選配）

5. 安裝與首次開機準（zhǔn）備

放置在穩固實（shí）驗台上，避免振動源。
使用帶地線的（de）三孔插座，接地電阻≤100 Ω。
連接氬（yà）氣瓶，設定二級壓（yā）力0.03-0.05 MPa。
檢查真空泵油位（wèi）。
首次抽真空測試，觀（guān）察是否達到10⁻³ Pa級別。

6. 詳細操作步驟（zhòu）

6.1 開機（jī）與準備

打（dǎ）開氬氣瓶總閥（fá），設定二級壓力0.04 MPa。
接通主機電源。
觸摸（mō）屏亮起，進入（rù）主界麵。

6.2 放入樣品

確保（bǎo）腔體已通大氣。
抬起玻（bō）璃缸蓋。
固定樣品在樣品台上。
調整靶-樣距離。
蓋上玻璃缸。

6.3 參（cān）數設定（dìng）

點擊“Process”或“Recipe”。
設定靶材類型、濺射電流、濺射時間或膜（mó）厚等參數。
保存為Recipe。

6.4 開始鍍膜

點擊“START”。
設（shè）備自動執行鍍膜過程。

6.5 取（qǔ）樣與關機

鍍膜結束後，設備自動破真空。
打開玻璃缸取出樣品。
關閉玻璃缸，點擊“Vent”或長按“STOP”。
關（guān）電源開關，關閉氬氣瓶總閥。

7. Recipe常用參數推薦

應用場（chǎng）景	靶材（cái）	電流(mA)	時（shí）間(s)	預計膜厚(nm)	備注
常規SEM	Au	20	60	8-12	經濟型
高（gāo）分辨FE-SEM	Pt 或 Pt/Pd	25	90	5-10	顆（kē）粒最（zuì）細
生物樣品	Au/Pd	15-20	120	10-15	低溫優（yōu）先
EDS能譜分析	碳蒸發（選配）	-	-	10-20	避免金屬峰幹擾
厚樣品或大樣品	Au	30	180	20-30	需選配大腔體

8. 靶材更換步驟

完全破真空，打開玻璃（lí）缸。
戴（dài）手套，用內六（liù）角扳（bān）手旋鬆靶材壓環。
取（qǔ）出舊靶材。
放入新靶材。
擰緊（jǐn）壓環。
關閉玻璃缸，抽真空檢（jiǎn）漏。
運行一次空鍍。

靶材壽命（mìng）：Au靶（bǎ）約可（kě）鍍500-800次。

9. 日常維護與保養

維護項目	頻率	方法
清潔樣品室玻璃缸	每次使用後	用無塵布（bù）+異丙醇或丙酮擦拭
檢查O型圈	每周	目視檢查，用矽脂輕塗
更換真（zhēn）空泵油	每（měi）300-500小時	放（fàng）油→清洗油箱→加新油
分子泵維護（hù）	每1-2年	返廠或（huò）專業人（rén）員再生
靶材（cái）表麵清潔	更換靶材時	用細砂紙打磨氧化（huà）層
整機除塵	每月（yuè）	用吸塵器+軟刷清理
氬氣（qì）管路檢查	每月	檢查接頭有無漏氣

10. 常見故障排除

故障現象	可（kě）能原（yuán）因	解決方案
無法起輝	氬（yà）氣壓力不（bú）足 / 靶材氧化 / 真空度太高（gāo）	檢查氬氣壓力；空鍍去氧化；降低真空
電流不穩或過低	靶材耗盡 / 接觸（chù）不良	更換靶材；檢查壓環緊固
真（zhēn）空抽不上（shàng）	泵油不足 / 漏氣 / O圈老化	加泵油；檢漏；更換（huàn）O圈
鍍膜厚度與設定不符	膜厚計探頭髒 / 靶材速率變化	清潔石英晶振；重新（xīn）校準膜厚計
觸摸屏無響應	電源波動 / 軟件死機	重（chóng）啟主（zhǔ）機（jī）；聯係售後
樣品（pǐn）過熱或損傷	電流（liú）過高 / 時間過長（zhǎng）	降低電流；分（fèn）多次鍍膜

11. 選配件介紹

膜（mó）厚監控單元：石英晶振實時測量，精度±0.1 nm。
大樣品腔體：樣品（pǐn）直徑可達150 mm，高度30-50 mm。
碳蒸發附件：用於EDS分析。
多種（zhǒng）靶（bǎ）材：Pt、Au/Pd、Pt/Pd等。
自動變壓器：支（zhī）持115-240 V寬電壓。

12. 注意事項與最佳實踐

新靶材首次使用必須空鍍20-30秒。
生（shēng）物樣（yàng）品（pǐn）建議采（cǎi）用Pt靶+低電流。
長時間不使用時，每周開機抽真空1小時（shí）。
記（jì）錄每次鍍膜（mó）參數與SEM成像效果。
如需中文完整官方手冊，請聯係（xì）日立高新中國官方或（huò）當地代理商。

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