【產品（pǐn）名稱】韓國Top Engineering 380mm ICP刻蝕機（型（xíng）號：Hietch LX-380）
【核心參數】
品牌：韓國Top Engineering（半導體幹法（fǎ）刻蝕（shí）設備（bèi）頭部（bù）廠商，專（zhuān）注ICP/CCP技術）
型號：Hietch LX-380（380mm晶圓專用）
生產年份：2014年3月（原廠出廠日期）
晶圓兼容：380mm（覆蓋主流半導體工藝（yì）尺寸（cùn））
機器尺寸：2510mm（長）×1080mm（寬）×1890mm（高）
重量：2000kg（2噸，需叉車/吊（diào）裝設備）
電（diàn）源要求：AC220V，3P/4W，50/60Hz，125A（工業級供（gòng）電）
狀態：實驗室持續（xù）使用（某高校半導體實驗室，2014年至今，定期維護，無重大故障）
【產品詳情】
本（běn）機為Top Engineering經典款ICP（電感耦合等離（lí）子（zǐ）體）刻蝕機，采用行業主流的ICP技術（shù）路線，通過電感線圈（quān）激發高密（mì）度（dù）等（děng）離子體，實現高刻蝕速率、優異（yì）均勻性、精準側壁控製三大核心優勢，是半導體集（jí）成電路（IC）、MEMS（微機電係統）、化合物半導體（GaAs/SiC）等領域的關鍵（jiàn）設備。
技術亮點：
等離子體密度高（gāo）達10¹¹-10¹² cm⁻³，刻蝕速率可達1000Å/min（矽（guī）材料）；
晶圓內均勻性≤±5%（380mm全尺寸），滿（mǎn）足先進工藝要求；
支持各向異性刻蝕（垂直側壁），適用於溝槽、接觸孔、深孔等結構；
兼（jiān）容多種材料：矽、鋁（lǚ）/銅金屬、二氧化矽/氮化矽（guī）介質、光刻膠等；
配備（bèi）工業級控製係統（帶17寸顯示器+鍵盤），支持實時（shí）監（jiān）控等離子體功率、真空度、氣體流量（liàng）等參數，操作界麵友好。
【使用背景與優勢】
該設備自2014年投入使（shǐ）用以（yǐ）來，一直在高（gāo）校半導體實驗室（shì）運行，主要用於：
為什麽選擇這台二手設備？
性價比極（jí）高：全新380mm ICP刻蝕機價（jià）格超（chāo）百萬，本機僅為全新機的（de）1/3-1/2；
風（fēng）險極低：實驗室環境清潔，操作規範，關鍵部件（jiàn）（ICP線圈、真空泵、RF發生器）無明顯磨損（sǔn），原廠維護記（jì）錄完整；
即買即用：無需長時間調試（shì），直接對接現有（yǒu）實驗室氣路/電（diàn）路（220V供電，符合國內工業標準（zhǔn））；
售後保障：提供原廠說明書、維護手冊、校準報告，可（kě）協助安裝調試，質（zhì）保3個月（核心部件保6個月）。
【應用場（chǎng）景】
科研機（jī）構：半導體工藝教學、前沿刻蝕技術研發；
中小（xiǎo）企業：小批量IC/MEMS生產（如（rú）傳感器、功率器件）；
高校實（shí）驗室：研（yán）究生課題實驗、校企合作項目。
【聯係我們（men）】
設備位於國內某一線城市實驗（yàn）室，支持現場看貨+試機（需提前預約）。如需了解詳細工藝參數、維護記錄或獲取（qǔ）報價，請（qǐng）聯（lián）係我們的（de）銷售團隊：
